温室西瓜栽培 怎样设计株行距（如何进行留蔓 整蔓和吊秧）

在温室中栽培西瓜，可以利用设施的有利条件，实行宽窄行、吊秧、篱架栽培，一般宽行距90--100厘米、窄行距40—50厘米，株距按40--50厘米，其栽植密度提高至1800--2400株/亩。

西瓜定植后，为提高早期叶面积系数，不可急于抹芽，应让其随意生长，尽快增加叶面积，促根壮秧。待瓜秧长至60厘米以上时，方可抹芽打杈。抹芽时先选留4条大蔓（包括主蔓），让其继续生长，其余的小瓜蔓一律疏除。

留下的瓜蔓，从中选出两条较大的瓜蔓，用吊瓜线按吊架黄瓜的方法，吊向空中，吊蔓时要采取“S”型缠蔓，使瓜蔓弯曲上升，以缓和瓜蔓长势，和充分利用空间。瓜蔓叶腋间发出的二次副蔓，除座瓜节位处的1条，留3—4叶摘心，保留外，其余副蔓要全部及早疏除，以防止生长点过多，造成营养竞争，恶化光照条件，影响座瓜。

对另外二条瓜蔓，一条留8—10叶摘心，并抹除其二次副蔓，另一条瓜蔓，要及时抹除二次副蔓，让其在行间地面上延伸，人工授粉的同时摘除其生长点及其副蔓，排除竞争，以利座瓜。

这样操作，可以在西瓜的生育早期，较多地保留成龄叶片，增大瓜田早期的叶面积系数，充分利用空间。较大的叶面积，能较多地制造有机营养，促进根系发达、壮秧、促瓜，为以后的高产优质打下基础。

西瓜坐稳以后，一般情况下，随着幼瓜的加速膨大，瓜秧营养生长会逐渐减慢、直至停止。但在温室中栽培，因栽植密度大，肥水充足，瓜秧仍会旺长不停，若任其生长，会造成瓜秧郁闭，光照条件恶化，减少光合产物的积累，造成西瓜减产，且易诱发病害。

因此，要注意及时控制瓜秧长势，一旦瓜秧长至长2米左右时，要及时摘除瓜头，疏除分杈。改善光照条件，提高光合效率，并抑制瓜秧营养生长长势，促进有机营养输入中心及时地转向幼瓜。